一、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號(hào)：KDH-1000
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：TRP-48直聯(lián)泵、旁路閥及管道組成。
4、冷態(tài)極限真空度≤5Pa
5、熔煉電流：額定電流1000A
6、腔室尺寸：￠400*410
7、電源功率：≤60KW
8、熔煉坩堝設(shè)計(jì)有五個(gè)?40*5圓片型工位，三個(gè)?20*10半球形工位。
其中5個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。
9、工作氣體：Ar氣；
10、翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件
11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧
12、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿升降搖擺全部采用電動(dòng)方式，設(shè)計(jì)手持式操作按鈕盒，無(wú)負(fù)重操作方便省力。
13、爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀(guān)察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。
14、控制方式：觸摸屏+plc
三、配置清單：
1、電弧熔煉真空室 1臺(tái)
2、水冷電弧槍及電動(dòng)升降 1支
3、電弧熔煉電源 1套
4、五工位水冷銅模 1套
5、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手 1套
6、高真空系統(tǒng)（直聯(lián)泵+分子泵-高真空閥門(mén)） 1套
7、惰氣充放系統(tǒng) 1套
8、鎢電極針 2件
9、電氣控制系統(tǒng) 1套
10、產(chǎn)品合格證、使用說(shuō)明書(shū) 1份
11、產(chǎn)品技術(shù)資料（合格證使用說(shuō)明書(shū)等） 1份
12、備品備件及專(zhuān)用工具 1套
