一、桌面式 真空電弧爐 不占空間 移動方便產品簡介
微型電弧爐主要用于熔煉高熔點金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設備采用桌面式結構，占地空間小。
二、桌面式 真空電弧爐 不占空間 移動方便產品特點
1·爐體全不銹鋼設計，外形美觀大方
2·采用立式側部開門結構，結構新穎
3 .配置大口徑觀察窗，可實時觀察爐內的冶煉情況
4·冶煉溫度高，純氯保護熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉
5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小
6·采用桌面式設計，易操作
7 配有操作模擬屏，控制數據直觀顯示，操作直觀簡潔
8.高真空設計，真空室小可快速抽真空真空度可達5×10E-4Pa及以上，氬氣消耗少
9.自帶冷水機，到貨即可使用。
10.采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
11.水冷銅電極可360度移動，操作靈活，同時水冷坩堝小巧可更換，可定制。
12.帶翻料裝置，克服物料單面熔化不勻的局面
13·整個設備小巧，可整體放置在手套箱內
14·可選配吸鑄，鑄造不同尺寸的圓棒和片狀料，樣品尺寸：1,1.5 2,4,5,mm
15·吸鑄模具兩片式結構拆卸方便
三·功能參數：
1·樣品熔煉量：5-20g;
2·熔煉電流：10-250A;
3·熔煉電壓：20V;
4·電源額定輸入功率：6.3 KVA;（電源可根據客戶熔煉需要需要配置更大容量電源
5·熔煉溫度：0-3500℃，滿足絕大多數實驗要求;
6·真空度：≦ 5pa ~ 6.7*10-3pa可選（冷態極限真空）
7·熔煉電極：電極水冷，自由移動，操作靈活;
8·熔煉坩堝：標準銅模中帶有五個12*φ25半球形工位；
另可根據客戶要定做，可選配吸鑄功能
9·整機尺寸：wxdxh(350x450x650)mm;
10·電源：220v/50/60HZ/兩相供電;(根據電源功率定）
