桌面式小型真空甩帶爐是用來(lái)制備和開(kāi)發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開(kāi)發(fā)與研究。
桌面式小型真空甩帶爐參數(shù)
1.樣品澆鑄熔煉量：200g;
2.澆鑄坩堝尺寸：35*70
3.熔煉溫度：高2200℃
4.樣品噴鑄甩帶熔煉量：20g;
5.輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷);
6.銅棍速度：1-3000r/min;
7.真空度：優(yōu)于5x10-4Pa;
8.熔煉電源功率：7KW;
9.甩帶噴鑄熔煉溫度：500℃-1700℃，滿(mǎn)足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)要求;
10.熔煉坩堝：氧化鋁
11.噴鑄甩帶坩堝：氮化硼及石英;
12.條帶寬度：1-10mm;
13.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)
14.設(shè)備尺寸：620*560*780m（L*W*H）
15.標(biāo)配：主機(jī)及感應(yīng)熔煉電源
16.桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
真空甩帶爐是用來(lái)制備和開(kāi)發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開(kāi)發(fā)與研究。
設(shè)備參數(shù)
1.樣品澆鑄熔煉量：200g;
2.澆鑄坩堝尺寸：35*70
3.熔煉溫度：高2200℃
4.樣品噴鑄甩帶熔煉量：20g;
5.輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷);
6.銅棍速度：1-3000r/min;
7.真空度：優(yōu)于5x10-4Pa;
8.熔煉電源功率：7KW;
9.甩帶噴鑄熔煉溫度：500℃-1700℃，滿(mǎn)足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)要求;
10.熔煉坩堝：氧化鋁
11.噴鑄甩帶坩堝：氮化硼及石英;
12.條帶寬度：1-10mm;
13.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)
14.設(shè)備尺寸：620*560*780m（L*W*H）
15.標(biāo)配：主機(jī)及感應(yīng)熔煉電源
16.桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
